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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 电化基础 » 请问还原峰电流与扫描速度的平方根呈正比，说明铜的还原过程为扩散控制过程
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中南马如龙

金虫 (著名写手)

[求助] 请问还原峰电流与扫描速度的平方根呈正比，说明铜的还原过程为扩散控制过程 已有1人参与

还原峰电流与扫描速度的平方根呈正比，说明铜的还原过程为扩散控制过程，还原峰电流与扫描速度呈正比，说明铜的还原过程为表面控制过程

这个结论怎么得到的？具体根据什么公式？求各位大神解答。最好能够给出那本书的多少页，那个具体公式，多谢。
本人小白，要不然不懂。多谢了！！！
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1楼 2015-04-14 20:33:28
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fanxuliang90

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
中南马如龙: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2015-04-17 08:52:46
判断扩散控制，应该是根据Randles-Sevcik方程，在巴德那本电化学方法第六章循环伏安那一块有。表面控制的话我理解是与离子扩散没有关系，和电子有关，扫速增大，提供电子速度快，峰电流随之增加，所以与扫速成正比
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无牵无挂。。自己努力
2楼2015-04-15 11:02:02
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中南马如龙

金虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by fanxuliang90 at 2015-04-15 11:02:02
判断扩散控制，应该是根据Randles-Sevcik方程，在巴德那本电化学方法第六章循环伏安那一块有。表面控制的话我理解是与离子扩散没有关系，和电子有关，扫速增大，提供电子速度快，峰电流随之增加，所以与扫速成正比

好的，我看看，多谢你了。
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3楼2015-04-17 08:53:52
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