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luing993

铁虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】如何去除抛光液残留

小弟是做电子元件的可靠性分析,进行样品打磨已经4个月了,但是一直有一个问题存在。
    我打磨样品先是180目,接着600目---2400目---4000目。最后用0.3μ的氧化铝抛光液抛光。经常会出现抛光液残留在铜线上,很难去除。因为要做SEM,通常要放大到5000X,所以抛光液残留是不太允许的。不知道哪位有经验的能够给点建议。先谢了

[ Last edited by SHY31 on 2008-7-11 at 22:18 ]
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相思断

金虫 (初入文坛)

氧化铝抛光以后再用清水抛一下应该即可
7楼2008-07-11 16:18:53
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tjumark

金虫 (著名写手)

用酒精超声清洗后干燥
知足常乐,奋斗不息。
2楼2008-06-30 23:07:00
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luckypdg

丙酮中超声波清洗效果更好
3楼2008-07-02 12:56:51
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luing993

铁虫 (初入文坛)

谢谢楼上两位,不过意外有些降粘剂是不能用超声波的,因为胶和银的结合强度很低,轻微的超一下就碎了,这样就不能真实的反应原本的结构,所以不能用超声波清洗。此外,如果本来有孔洞,用超声波清洗后,抛光液残留物会明显的附着在孔洞附件,更加难以清洗
4楼2008-07-07 21:33:59
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