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luing993

铁虫 (初入文坛)

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虫号: 400370
注册: 2007-06-12
性别: GG
专业: 高分子材料的加工与成型

[交流] 【求助】如何去除抛光液残留

小弟是做电子元件的可靠性分析，进行样品打磨已经4个月了，但是一直有一个问题存在。
我打磨样品先是180目，接着600目---2400目---4000目。最后用0.3μ的氧化铝抛光液抛光。经常会出现抛光液残留在铜线上，很难去除。因为要做SEM,通常要放大到5000X，所以抛光液残留是不太允许的。不知道哪位有经验的能够给点建议。先谢了

[ Last edited by SHY31 on 2008-7-11 at 22:18 ]

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1楼 2008-06-30 20:12:31

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luing993

铁虫 (初入文坛)

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专业: 高分子材料的加工与成型

非常感谢楼上的各位朋友。我用过牙膏抛，但是牙膏里的钙不规整，会破坏样品表面。我现在的方法是尽量少用抛光液，减少抛光时间（这就要求在4000目的时候打磨的要好些，细致些。）抛完了用水冲，最后用镜头纸擦拭。效果好些，但是还是有一定的抛光液残留。超声波清洗的办法估计是不行，会破坏里面的结构。试过降低强度，但是还是会出现孔洞，这些都是超过的结构，并不是真实的结构。用稀盐酸或碱溶液将残余的氧化铝融解掉是可以，但是与此同时，也会溶解掉铝层，这不是希望得到的结果。我还在想办法，如果有好的方法，我也会和大家分享的

此外，用清水抛确实能有一定的改善，但是带来的问题是会产生划痕，这是客户不允许的。因此，如果有朋友也从事这方面工作，我倒是建议用清水抛的同时加如一下润滑剂。

再次感谢大家的帮助。