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水热法在ITO基底上合成氧化钴，但煅烧后，氧化钴脱落，为什么？ 已有6人参与
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采用水热法在ITO基底上合成氧化钴，但煅烧后，氧化钴脱落（如下图），为什么？请教大神。 大家在ITO基底上沉积水热合成材料是都是什么步骤啊？ 我个人分析有两个原因：一是ITO预处理不够干净，导致水热生长结合力弱； 二是水热配方不合适，沉积层过厚，有应力，加热导致脱落。 请各位大神不吝指教。  IMG_0166.JPG  IMG_0167.JPG  IMG_0168.JPG  IMG_0169.JPG  IMG_0170.JPG  IMG_0171.JPG |
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9楼2015-03-30 13:06:37
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