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yuhe0102

新虫 (正式写手)

[求助] 20CrNiMo钢复试实际奥氏体晶界，总有很多黑斑， 已有1人参与

20CrNiMo钢水淬后腐蚀奥氏体晶界，为啥有些地方清晰，有些地方出不来，或者很浅，而且还有很多黑斑，用的60ml水+2.5g苦味酸+0.2g十二烷基苯磺酸钠+0.1g铁片+三滴H2O2，水浴加热到60℃，抛光之后观察有黑点，但比较小，腐蚀之后变多变大，随着复试时间增长，黑斑增大。应该不是脏东西，用清水抛过，是有元素发生了反应吗？

20CrNiMo钢复试实际奥氏体晶界，总有很多黑斑，
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20CrNiMo钢复试实际奥氏体晶界，总有很多黑斑，-1
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1楼 2015-03-12 12:44:27
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single7194

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
一般这种情况可以确定是抛光时候留下的物理缺陷，比如凹坑。坑中残余抛光材料等污染物，在腐蚀以后出现这种如同团絮般的大块分离的黑斑。
你可以继续抛光腐蚀后的试样，可以发现晶界变模糊的同时，黑斑也会越来越小，直至消失。
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炼金术士
2楼2015-03-12 14:05:56
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yuhe0102

新虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by single7194 at 2015-03-12 14:05:56
一般这种情况可以确定是抛光时候留下的物理缺陷，比如凹坑。坑中残余抛光材料等污染物，在腐蚀以后出现这种如同团絮般的大块分离的黑斑。
你可以继续抛光腐蚀后的试样，可以发现晶界变模糊的同时，黑斑也会越来越小 ...

您说的是这样，但我抛光之后再腐蚀还是这样，很没办法，是H2O2加少了腐蚀速度不够，还是苯磺酸钠加少了，活性剂不够，想不明白
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3楼2015-03-12 20:24:41
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single7194

木虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yuhe0102 at 2015-03-12 20:24:41
您说的是这样，但我抛光之后再腐蚀还是这样，很没办法，是H2O2加少了腐蚀速度不够，还是苯磺酸钠加少了，活性剂不够，想不明白...

抛光膏/粉粒度大、抛光试样施压大等原因都会导致抛光面存在缺陷，腐蚀以后出现污染。有时候酒精中水含量超标、污染腐蚀剂等等都会造成这种情况。
我以前做0.2C、2.5Cr、1Mo的钢，不使用双氧水也能够快速腐蚀出晶界，而且很容易过腐蚀。
实在是不行的话，考虑电解腐蚀，不容易出现表面物理缺陷。
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炼金术士
4楼2015-03-13 09:53:49
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