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cruiser0631新虫 (初入文坛)
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[求助]
SC-1洗液清洗硅片用作AFM基片会不会明显增加表面粗糙程度？ 已有1人参与
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用H2O2:氨水:水=1:1:5加热至80度清洗20min，会不会增加硅片表面粗糙程度？样品厚度在1nm左右，会不会影响观察？多谢 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
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2楼2015-01-29 16:59:39