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关于碳钢腐蚀EIS等效电路中电容元件的意义交流 已有1人参与
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本人目前研究的方向是碳钢在土壤中的腐蚀机理，分析其EIS时遇到这样一个问题，望与同行讨论交流： 曾拜读过曹楚南的《电化学阻抗谱导论》，了解到对于一个电极过程，对电极系统进行电位扰动时，输出的电流分为法拉第电流和非法拉第电流。示意图见图1，其中的R代表介质电阻，Cdl代表双电层电容的充放电过程（非法拉第过程），下面的Z代表活化过程的阻抗（法拉第过程）。（详见《电化学阻抗谱导论》第三章 电极过程的表面过程法拉第导纳） 对于图2这样的双容抗弧EIS，我选择图3的等效电路R(Q(R(QR)))分析（由于弥散效应的存在，以Q代替C，即图中的CPE），按照曹楚南所讲的原理，第一个Q应该对应双电层电容，第二个Q应该对应其他电容（比如腐蚀产物膜的电容）。 但我在看文献时发现，大多学者都将第一个Q归结为腐蚀产物的电容，而将第二个Q作为双电层电容分析，这与《电化学阻抗谱导论》中讲的正好相反，便不知该如何处理，还请大神们指正。 万分感谢！  图1.png  图2.png  图3.png |
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 介电材料 |
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