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leechunyang

金虫 (小有名气)

[求助] 电镀铜槽中整平剂R2-B分析

各位大神好:
    在电镀铜槽中加入了乐思化学提供的药水VMS、添加剂R1(光亮剂)、R2-A(抑制剂)、R2-B(整平剂),使用万通的CVS循环伏安极谱仪,利用RC响应曲线法检测槽液中的R2-B整平剂,现遇到两个问题:一是R2-B的检测结果不稳定,相差很大;二是槽液中的R2-B无法检测;请问如何能够提高R2-B检测的稳定性?槽液中的R2-B为什么无法检测?R2-B的结果是否受R1及R2-A影响?
   谢谢各位大神,若各位提供的方法解决了问题,将追加300金币。
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日生星星

木虫 (初入文坛)

同问,求大神回答
2楼2016-02-25 17:08:56
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sam8sara

新虫 (初入文坛)

抑制剂用DT,光亮剂用MLAT,平衡剂(整平剂)综合效果,相对来说,成分检测难度有提高。万通所用的CVS原理的鼻祖创始人来自ECI美国。

一是R2-B的检测结果不稳定,相差很大;二是槽液中的R2-B无法检测;请问如何能够提高R2-B检测的稳定性?槽液中的R2-B为什么无法检测?R2-B的结果是否受R1及R2-A影响?

相差大,原因很可能来自 R2-B成分本身的因素(即便同一品牌的同一FAB所出的同一批次,也会有一定差异)
R2-B肯定受到 R1及R2-A的影响。( 整平剂的原理是 光亮剂+抑制剂的综合)
ECI,ExtendwithCreativeandInnovativeSolution
3楼2018-07-17 11:08:28
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