| 查看: 451 | 回复: 0 | ||
[求助]
GaN表面金属镍薄膜退火成小球的条件
|
|
求助： 小女子最近想用金属镍小球刻蚀GaN，怎奈镍薄膜退火无论如何也没能形成小球，本人工艺条件是镍薄膜10nm，退火温度850,950，时间从1min到5min不等，氮气氛围，恳请各位高人指点！ |
回复此楼» 猜你喜欢
仿真模拟
已经有0人回复
-
求一个催化的学术会议群
已经有0人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有189人回复
-
关于BiFeO3基流延问题
已经有2人回复
-
材料模拟计算
已经有0人回复
-
国防科技大学空天科学学院招聘启事陶瓷基复合材料方向科研助理招聘
已经有859人回复
-
多孔结构的镍基催化剂
已经有7人回复
-
精准控杂，赋能多孔碳——阜成智能气氛炉成功完成多孔碳钝化杂质探究实验
已经有0人回复
