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急求行家援助！！！
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| 本人初次在氮掺杂TiO2的基础上修饰窄禁带的半导体材料，结果做出的三元复合材料的光降解MB的性能比单纯的氮掺杂TiO2的光降解能力还要低，请问这是怎么回事？我是否可以再测测它的光分解制氢能力？会不会出现这种材料的光降解能力差，而其他的光催化性能好这种情况捏？本人刚做这个不太了解，有劳各位高人鼎力相助，不胜感激！！！！ |
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