| 查看: 264 | 回复: 0 | ||
[求助]
急求行家援助！！！
|
| 本人初次在氮掺杂TiO2的基础上修饰窄禁带的半导体材料，结果做出的三元复合材料的光降解MB的性能比单纯的氮掺杂TiO2的光降解能力还要低，请问这是怎么回事？我是否可以再测测它的光分解制氢能力？会不会出现这种材料的光降解能力差，而其他的光催化性能好这种情况捏？本人刚做这个不太了解，有劳各位高人鼎力相助，不胜感激！！！！ |
回复此楼» 猜你喜欢
假如你的研究生提出不合理要求
已经有12人回复
-
实验室接单子
已经有7人回复
-
全日制（定向）博士
已经有5人回复
-
萌生出自己或许不适合搞科研的想法，现在跑or等等看？
已经有4人回复
-
Materials Today Chemistry审稿周期
已经有4人回复
-
参与限项
已经有3人回复
-
对氯苯硼酸纯化
已经有3人回复
-
所感
已经有4人回复
-
要不要辞职读博？
已经有7人回复
-
北核录用
已经有3人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~
点击这里搜索更多相关资源科研从小木虫开始，人人为我，我为人人