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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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li19910228

银虫 (小有名气)

[求助] 刻蚀选择比 已有1人参与

各位mems工艺的大虫们,有人知道ICP刻蚀机对不同的掩膜层的选择比吗?

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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li19910228

银虫 (小有名气)

keailinger: 记得给人家金币啊! 2015-01-14 18:26:06
引用回帖:
4楼: Originally posted by tangolee at 2015-01-13 12:43:58
书上有,大致的你看书就知道了。
目前我这边的深硅设备光刻胶:硅=1:50左右...

好的,谢谢你的答复

[ 发自小木虫客户端 ]
5楼2015-01-13 19:00:21
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tangolee

禁虫 (正式写手)


tyhjqxbz: 金币+1, 感谢发帖求助,欢迎常来工艺技术版 2015-01-13 15:49:55
本帖内容被屏蔽

2楼2015-01-13 08:37:24
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li19910228

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by tangolee at 2015-01-13 08:37:24
影响因素太多,所以不能一概而论.你去做就知道了

影响因素是很多,那有没有大概的数呢?根据掩膜材料和被刻蚀材料

[ 发自小木虫客户端 ]
3楼2015-01-13 08:53:56
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tangolee

禁虫 (正式写手)


keailinger: 金币+1, 感谢应助交流,欢迎常来工艺技术版。 2015-01-14 18:25:44
本帖内容被屏蔽

4楼2015-01-13 12:43:58
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