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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 刻蚀选择比
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li19910228

银虫 (小有名气)

[求助] 刻蚀选择比 已有1人参与

各位mems工艺的大虫们，有人知道ICP刻蚀机对不同的掩膜层的选择比吗？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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1楼 2015-01-12 21:47:05
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li19910228

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by tangolee at 2015-01-13 08:37:24
影响因素太多,所以不能一概而论.你去做就知道了

影响因素是很多，那有没有大概的数呢？根据掩膜材料和被刻蚀材料

[ 发自小木虫客户端 ]
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3楼2015-01-13 08:53:56
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tangolee

禁虫 (正式写手)
★
tyhjqxbz: 金币+1, 感谢发帖求助，欢迎常来工艺技术版 2015-01-13 15:49:55
本帖内容被屏蔽
2楼2015-01-13 08:37:24
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tangolee

禁虫 (正式写手)
★
keailinger: 金币+1, 感谢应助交流，欢迎常来工艺技术版。 2015-01-14 18:25:44
本帖内容被屏蔽
4楼2015-01-13 12:43:58
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li19910228

银虫 (小有名气)
keailinger: 记得给人家金币啊！ 2015-01-14 18:26:06
引用回帖:
4楼: Originally posted by tangolee at 2015-01-13 12:43:58
书上有，大致的你看书就知道了。
目前我这边的深硅设备光刻胶:硅=1：50左右...

好的，谢谢你的答复

[ 发自小木虫客户端 ]
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5楼2015-01-13 19:00:21
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