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铜虫 (初入文坛)

[交流] 纳米二氧化硅在抛光液中的应用 已有1人参与

纳米二氧化硅在抛光液中占有一席之地,目前主要是应用在蓝宝石和硅片中。抛光分粗抛和精抛,据我了解业界粗抛二氧化硅粒径:80-120nm,精抛:40-60nm。为什么会有这样的定论呢?而我认为粗抛应该与颗粒大小无太大的关系,关键还是粒径分别要均匀,这样在一定压力下才不会造成刮伤,同时我认为颗粒越大(个人认为微纳级别都没问题),粗抛效率越高,不知道小弟的理解对不对,还请多多指教。
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lge11

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
颗粒均匀才能得到好的表面,个人认为速率与粒径关系并不是很大,80nm与120nm速率相差不是很多,添加剂对速率影响比粒径要大。
2楼2015-01-04 18:18:44
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1036231610

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by lge11 at 2015-01-04 18:18:44
颗粒均匀才能得到好的表面,个人认为速率与粒径关系并不是很大,80nm与120nm速率相差不是很多,添加剂对速率影响比粒径要大。

那如果是200nm呢?压力减小,速率提高,效率至少能提高20%把
纳米材料如何真正的用到工业化中
3楼2015-01-10 08:21:37
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