| 查看: 5769 | 回复: 163 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[资源]
【英美经典书籍】《Handbook of Thin Film Deposition》(第3版)【已搜索，无重复】
|
||
|
【英美经典书籍】《Handbook of Thin Film Deposition》(第3版)【已搜索，无重复】 【已搜索，无重复】论坛里，有个同名的帖子，连接已经失效了，而且只是第2版。 失效帖子的链接地址：http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=3297120&fpage=1&target=blank 为此，我上传这本书，供朋友们学习和参考。 我上传的这本书： 作者：Krishna Seshan 2012年，293 页，PDF 格式，19 MB。 Language: English . 封面： 。  。 简介： "The Handbook of Thin Film Deposition" is a comprehensive reference focusing on thin film technologies and applications used in the semiconductor industry and the closely related areas of thin film deposition, thin film micro properties, photovoltaic solar energy applications, new materials for memory applications and methods for thin film optical processes. In a major restructuring, this edition of the handbook lays the foundations with an up-to-date treatment of lithography, contamination and yield management, and reliability of thin films. The established physical and chemical deposition processes and technologies are then covered, the last section of the book being devoted to more recent technological developments such as microelectromechanical systems, photovoltaic applications, digital cameras, CCD arrays, and optical thin films. This is a practical survey of thin film technologies aimed at engineers and managers involved in all stages of the process: design, fabrication, quality assurance and applications. It covers core processes and applications in the semiconductor industry and new developments in the photovoltaic and optical thin film industries. The new edition takes covers the transition taking place in the semiconductor world from Al/SiO2 to copper interconnects with low-k dielectrics. It is written by acknowledged industry experts from key companies in the semiconductor industry including Intel and IBM. It is foreword by Gordon E. Moore, co-founder of Intel and formulator of the renowned 'Moore's Law' relating to the technology development cycle in the semiconductor industry. ============================== 敬请各位朋友，下载之后，给个回帖评价。我也好继续推出下一个最新科技书籍。 (不下载，也可以评价。) 谢谢！ |
回复此楼» 本帖附件资源列表
-
欢迎监督和反馈：小木虫仅提供交流平台，不对该内容负责。
本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : Handbook_of_Thin_Film_Deposition_3rd_edition_2012.pdf
2014-12-22 04:59:24, 19.05 M
» 猜你喜欢
一志愿武理材料工程321分，求调剂，有科研
已经有2人回复
-
一志愿南昌大学324求调剂
已经有6人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有132人回复
-
2026 武汉纺织大学 王栋课题组 接收大量调剂
已经有1人回复
-
一志愿南昌大学324求调剂
已经有7人回复
-
初试302分，求B区调剂
已经有2人回复
-
一志愿 南京邮电大学 288分 材料考研 求调剂
已经有2人回复
-
招收材料 化工 环境 物理调剂
已经有5人回复
-
一志愿南昌大学324求调剂
已经有10人回复
-
【2026考博自荐】211本硕半导体材料方向-CARBON一作一篇
已经有0人回复
72楼2014-12-28 14:34:56
12楼2014-12-22 18:53:03
简单回复
2014-12-22 08:13
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
jedi-j3楼
2014-12-22 09:01
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
2014-12-22 09:50
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
2014-12-22 10:44
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
lwg36楼
2014-12-22 11:45
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
VDFEPI7楼
2014-12-22 12:10
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
2014-12-22 13:38
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
wtiger9楼
2014-12-22 14:13
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
雷智锋石芸竹10楼
2014-12-22 18:17
回复
五星好评 顶一下，感谢分享！
雷智锋石芸竹11楼
2014-12-22 18:24
回复
顶一下，感谢分享！
雷智锋石芸竹13楼
2014-12-22 19:17
回复
顶一下，感谢分享！
雷智锋石芸竹14楼
2014-12-22 20:06
回复
顶一下，感谢分享！
