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maiyabc

铁虫 (正式写手)

[求助] 关于CVD的几个问题 已有1人参与

关于CVD制备薄膜几个问题求助：
直径 400mm的K9或石英基底的元件，CVD是否可以制备？CVD能否可以制备高低折射率交替的薄膜？，若制备SiO2，HfO2的薄膜，每层0.2%的沉积厚度控制误差是否能达到？
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1楼 2014-12-07 11:56:16
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wangdong999

铁杆木虫 (著名写手)

晶体化学渣渣
表示不懂。
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2楼2014-12-29 11:23:49
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wangdong999

铁杆木虫 (著名写手)

晶体化学渣渣

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
maiyabc: 金币+15, ★★★★★最佳答案 2014-12-29 11:29:17
CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。
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3楼2014-12-29 11:28:59
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