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maiyabc

铁虫 (正式写手)

[求助] 关于CVD的几个问题 已有1人参与

关于CVD制备薄膜几个问题求助:
直径 400mm的K9或石英基底的元件,CVD是否可以制备?CVD能否可以制备高低折射率交替的薄膜?,若制备SiO2,HfO2的薄膜,每层0.2%的沉积厚度控制误差是否能达到?
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wangdong999

铁杆木虫 (著名写手)

晶体化学渣渣

表示不懂。
2楼2014-12-29 11:23:49
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wangdong999

铁杆木虫 (著名写手)

晶体化学渣渣

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
maiyabc: 金币+15, ★★★★★最佳答案 2014-12-29 11:29:17
CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,但不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。
3楼2014-12-29 11:28:59
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