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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【求助】磁控溅射相关问题
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loverjyy

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射相关问题

在做三靶磁控溅射的时候，其中一个靶不断闪烁，请教各位大侠有知道是什么原因的吗？？？这个问题该怎么解决》？？？？？？？？谢谢！！！

[ Last edited by SHY31 on 2008-5-16 at 13:11 ]
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1楼 2008-05-16 11:36:36
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)
★ ★ ★
remeo2088(金币+3,VIP+0):谢谢回答
打火就是由于靶材导电性不佳导致电荷积累而产生的局域放电。
很多原因可以导致打火：靶表面脏（建议先小功率溅射等到电流电压稳定后提高功率）、真空气氛不好（导致实际上发生的是反应溅射，实用直流电源肯定容易打火，建议检查真空室的保压能力）、靶材质量不好（成分不均匀、有夹杂物或有裂纹等）、电源有问题等

如有中频电源或者交流电源（需要一对靶）可以试下，一般可以减少打火。

PS：打火原因很多，有些可能没有提到。
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5楼2008-05-16 16:05:31
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)
★
SHY31(金币+1,VIP+0):谢谢热心回答啊
可能是打火，原因可能是靶材导电性不好

靶的材料是什么？什么工作气体？电源是什么样的？
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2楼2008-05-16 11:55:17
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loverjyy

木虫 (小有名气)
★
remeo2088(金币+1,VIP+0):谢谢回答
钴靶 氩气 直流电源
请问能详细的解释一下什么是打火吗？还有这个问题该怎么解决？
以前做试验的时候也会出现这样的现象，但是有的时候不怎么出。
引用回帖:
Originally posted by Tavano at 2008-5-16 11:55:
可能是打火，原因可能是靶材导电性不好

靶的材料是什么？什么工作气体？电源是什么样的？

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3楼2008-05-16 12:06:19
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xujingjun

木虫 (小有名气)
可能是表面不是很干净，有氧化物
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4楼2008-05-16 13:49:42
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