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单晶硅纳米柱--光阴极的制作问题
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yangyongmao
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单晶硅纳米柱--光阴极的制作问题
本人以单晶硅纳米柱为光阴极进行光解水制氢,现在有以下两个问题请教:
1)用HF刻蚀制备硅纳米柱时如何保护铝背场?
2)沉积Ag颗粒时,如何确保沉积的银均匀?
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1楼
2014-11-13 21:08:17
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阿Q~~
至尊木虫
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yangyongmao: 金币+1
2014-11-14 16:58:00
帮顶一下,不懂 ~~~~~~~~~~~~~
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3楼
2014-11-14 07:07:59
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cord
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yangyongmao: 金币+5
2014-11-14 16:57:44
HF能刻蚀硅吗?HF是可以刻蚀SiOX层。
不让HF接触铝背场就可以了,用胶,或者先刻蚀在长铝背场。
Ag颗粒的均匀性问题要根据你所用的沉积方法来决定,统一答案就是好好调试你的实验室条件。
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2楼
2014-11-14 05:05:47
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yangyongmao
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专业: 金属有机化学
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2楼
:
Originally posted by
cord
at 2014-11-14 05:05:47
HF能刻蚀硅吗?HF是可以刻蚀SiOX层。
不让HF接触铝背场就可以了,用胶,或者先刻蚀在长铝背场。
Ag颗粒的均匀性问题要根据你所用的沉积方法来决定,统一答案就是好好调试你的实验室条件。
谢谢!用什么胶可以啊?因为长完铝背场后需要再次用硫酸和双氧水的溶液清洗抛光面,我用的AB胶会被氧化溶解了,如果不再次清洗的话不能得到硅纳米柱。2)沉积银颗粒时,单晶硅表面到什么颜色就可以了?
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5楼
2014-11-14 09:30:47
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changge87
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专业: 半导体材料
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当然是先刻蚀硅,之后再做铝背场的啊。
沉积颗粒就按照文献的浓度和时间就可以了,是什么颜色就什么颜色被。是浓浓的一坨?
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6楼
2014-11-15 17:08:04
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