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关于polymer用RIE刻蚀,用Cr做掩模板 已有1人参与
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| 想刻蚀polymer,采用Cr做掩模板。结果Cr也被刻蚀掉了。Cr厚度为40nm,chuck power是160w,flow rate 120sccm,时间20分钟。用氧气刻蚀的。感觉不科学啊,Cr不该被刻蚀掉啊。这是为什么?? |
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2楼2015-01-14 11:21:23









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