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关于polymer用RIE刻蚀，用Cr做掩模板 已有1人参与
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| 想刻蚀polymer，采用Cr做掩模板。结果Cr也被刻蚀掉了。Cr厚度为40nm，chuck power是160w，flow rate 120sccm，时间20分钟。用氧气刻蚀的。感觉不科学啊，Cr不该被刻蚀掉啊。这是为什么？？ |
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2楼2015-01-14 11:21:23