| 查看: 4137 | 回复: 70 | ||||||||
| 【奖励】 本帖被评价66次，作者火凤翱翔增加金币 46.2 个 | ||||||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||||||
[资源]
一些原子层沉积的综述
|
||||||||
|
Atomic layer deposition (ALD) is a cyclic process which relies on sequential self-terminating reactions between gas phase precursor molecules and a solid surface. The self-limiting nature of the chemical reactions ensures precise film thickness control and excellent step coverage, even on 3D structures with large aspect ratios. At present, ALD is mainly used in the microelectronics industry, e.g. for growing gate oxides. The excellent conformality that can be achieved with ALD also renders it a promising candidate for coating porous structures, e.g. for functionalization of large surface area substrates for catalysis, fuel cells, batteries, supercapacitors, filtration devices, sensors, membranes etc. This tutorial review focuses on the application of ALD for catalyst design. Examples are discussed where ALD of TiO2 is used for tailoring the interior surface of nanoporous films with pore sizes of 4–6 nm, resulting in photocatalytic activity. In still narrower pores, the ability to deposit chemical elements can be exploited to generate catalytic sites. In zeolites, ALD of aluminium species enables the generation of acid catalytic activity. |
回复此楼» 本帖附件资源列表
-
欢迎监督和反馈：小木虫仅提供交流平台，不对该内容负责。
本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : 一些原子层沉积综述.rar
2014-11-03 00:30:35, 20.04 M
» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 经典资源帖 | 纳米材料+光电子学 | uicorn3 | 金属纳米材料的制备与应用 |
| 薄膜材料制备与表征 | 科研设备设施 |
» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有186人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
求原子层沉积金属钴的相关参考文献
已经有5人回复- 南京航空航天大学曾海波教授团队怎么样
已经有14人回复
- 求Accounts of Chemical Research 最新模版
已经有4人回复
- 关于Atomic Layer Deposition（原子层沉积技术）的一篇综述
已经有322人回复
- 分享一篇27页的Al2O3薄膜综述
已经有127人回复
- Nature最新研究进展：石墨烯-氮化硼平面异质结构用作原子层厚度的电路
已经有117人回复
- Advanced Materials最新综述：由碳、硼、氮组成的二元/三元单原子层
已经有211人回复
- 使用Multiwfn绘制原子轨道图形、研究原子壳层结构及相对论效应的影响
已经有17人回复
- 关于原子层沉积薄膜生长模式的一篇综述
已经有18人回复
- 【讨论】热电材料科学进展及其对当代社会发展的影响及启示
已经有10人回复
23楼2014-11-19 21:04:06