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[交流]
用等离子法去除ITO材料 工艺参数
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| 用光刻胶5214光刻出形状，显影后用plasma去除玻璃表面的ITO材料（厚度：185nm），请问光刻胶需要多厚才能保护好玻璃？去除ITO时的加工参数能否提供一下？比如什么气体，多大功率，多长时间.....多谢各路大神 |
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