| 查看: 412 | 回复: 0 | |||
[交流]
用等离子法去除ITO材料 工艺参数
|
| 用光刻胶5214光刻出形状,显影后用plasma去除玻璃表面的ITO材料(厚度:185nm),请问光刻胶需要多厚才能保护好玻璃?去除ITO时的加工参数能否提供一下?比如什么气体,多大功率,多长时间.....多谢各路大神 |
» 猜你喜欢
27材料化工申博自荐 (六级 3SCI)
已经有5人回复
未来递送技术与创新治疗国际会议(EDIT2026),2026年11月13-15日,苏州
已经有0人回复
高分子科学论文润色/翻译怎么收费?
已经有293人回复
电催化氧化反应器现场运维,不可忽视的安全风险与防控措施
已经有0人回复
电池测试中dQ/dV怎么理解
已经有1人回复
中科院为什么不发布SCI分区啦?毫无责任与担当,
已经有0人回复
精细化工浓水做零排放,前端到底该配什么氧化工艺?
已经有0人回复
大湾区大学姚瑶课题组2027届博士生招生 (与中山大学联合培养)
已经有23人回复
光固化防涂鸦涂料
已经有56人回复
氯离子浓度对电催化处理效果的双重影响实测与参数优化
已经有0人回复










回复此楼

点击这里搜索更多相关资源