8楼: Originally posted by 诗雨心晴 at 2014-10-21 21:42:34
请问压片的厚度会不会造成很大的影响...

10楼: Originally posted by strawnese at 2014-10-22 09:54:34
他肯定要选取背景了，这是红外测试最基本的条件，不扣背景也得不到你的样品谱图，测表面羟基可是个技术活，背景处理的不干净对结果影响很大...

9楼: Originally posted by miaocuilan at 2014-10-22 09:11:39
压片厚度会影响峰的强弱，压片太厚的话会导致红外光不透光，峰强度很低。但是看你的谱图明显是水峰扣除不好，应该不是压片问题，是真空度不够的问题。...

14楼: Originally posted by 2008127207 at 2014-10-22 14:46:32
400摄氏度真空条件下处理1小时应该够，我就是这么做得，羟基峰能够看到，请问下你是不是掺杂了溴化钾压片的，我之前掺杂溴化钾压片得出的结果跟你的一样，后来我改成纯ZSM-5压片就解决了，你可以试试，

13楼: Originally posted by 诗雨心晴 at 2014-10-22 11:03:34
真空度不够，一般要抽真空达到什么程度啊？...

18楼: Originally posted by skkaa1314 at 2014-10-23 13:13:59
我做的羟基峰也不明显，我觉得可能是和微孔材料表面硅羟基少有关，我做了介孔材料与微孔材料的红外，在相同条件下，微孔材料的羟基峰确实不如介孔材料明显，当然也不一定准确

2楼: Originally posted by miaocuilan at 2014-10-20 09:03:52
水没有处理干净，所以羟基基本被水峰掩盖了，真空度肯定没抽上去。还有下次能不能直接上传图片，看你的问题还得去下载图片。