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TiO2致密层旋涂工艺的探索已有8人参与
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网上并没有发现讲述spin-coating technique的文献，在此讨论下旋涂工艺的设置以及初期工艺的探索？ 旋涂液为titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate) in 1-butanol， 退火工艺为500℃，旋涂膜厚为100nm以下，目前转速设置为1000rpm for 10s→3000rpm for 30s，FTO尺寸为2*1.5cm，旋涂出来的膜质量总是不高，可采取工艺为滴旋或旋滴，大家有什么看法呢？？ |
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5楼2014-10-14 12:20:42
2楼2014-10-13 21:14:54
3楼2014-10-13 23:11:20
4楼2014-10-14 12:08:41