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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 怎么在材料表面镀一层可控厚度绝缘层
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metaliium

银虫 (正式写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 磁控溅射 at 2014-09-30 21:41:30
应该是用磁控溅射做出来效果比较好，厚度可以精确控制，6楼是什么方法，不是很了解，可以精确控制厚度吗，薄膜均匀性如何,附着力如何?

当然不可能像磁控溅射那么精确，但是也意味着会比磁控溅射快很多。。。花十分钟搞一层，即使算上烘烤的2个钟头，很多磁控溅射的设备真空也都还没抽下来吧，更何况烘烤也就炉子里一扔的事。。。

lz要求的是几十个微米量级的厚度，精确性根本无所谓，磁控溅射确实可以精确到埃，但这样厚的绝缘层上谁在乎厚度误差个几十一百纳米呢。。。只要转速稳定，膜厚可以非常均匀，反正满足我电子束刻蚀要求，平整度足以做100纳米的结构。。。

和衬底的黏附不成问题，不过polyimide和金属间粘合不是很紧密，如果要进一步搭电极上去，我也有增加粘合的工艺，但是会复杂一点。因为lz没有提出要进一步做金属结构的要求，我假设这个缺点对lz不重要

当然毫无疑问溅射或者蒸发二氧化硅肯定是可行的
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11楼2014-10-01 06:29:50
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metaliium

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
7楼: Originally posted by flysun at 2014-09-30 06:47:08
因为我对你说的工艺怎么操作不懂，应该在什么仪器上操作啊，能明确点吗，谢谢啦
...

另外我仔细看了一下你的图，你不仅仅需要绝缘层，而是有特定结构的绝缘层。。。所以你肯定需要有个模板。 polyimide 可以被氧气plasma 刻蚀，可以尝试压着模板刻蚀掉不需要的部分。当然肯定会有undercut，效果不一定很好，但还是那句话，你那么巨大的结构，估计也不在乎undercut了

如果你确实想用磁控溅射或者电子束蒸发来做绝缘层，比方说二氧化硅，也没问题，也要压着膜板做，但那两者不太适合做如此厚的结构，速度相对你需要的厚度太慢，成本可能很高，另外我不确定如此厚的膜在应力的作用下质量会如何，会不会开裂

转膜仪我假设任何学校只要有人做纳米器件的话就应该有。
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12楼2014-10-01 06:50:32
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匿名

用户注销 (著名写手)
本帖仅楼主可见
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13楼2015-09-29 17:02:57
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c1070828224

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by metaliium at 2014-09-30 02:25:01
我用的是polyimide，就转一下膜，然后加热cure就完了，厚度通过选用不同种的polyimide、改变转速以及改变覆盖层数来控制，非常容易，10分钟一片吧（当然加热烘烤是要几个钟头的）。。。

有没没在卷料上进行涂绝缘层的案例
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14楼2017-09-06 09:27:58
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dujunwei

金虫 (小有名气)
楼主解决了没，我也遇到同样问题，想请教一下

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15楼2018-08-24 16:50:32
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