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junshane

木虫 (正式写手)

[求助] 二氧化硅表面疏水改性问题,望高手指教,谢谢! 已有7人参与

最近课题在做一块超疏水的二氧化硅纳米颗粒,初步方案是采用十二烷基三乙氧基硅烷去修饰SiO2,想着应该很简单能够做出来,可是最后得到的产物总是亲水的,具体的步骤如下:1g SiO2溶在100ml乙醇中,恒温70℃条件下加入10ml的乙醇/硅烷混合溶液(其中十二烷基三乙氧基硅烷2ml),反应4~5个小时后,离心数次90℃干燥。望高手指点,其中是否有误。PS:二氧化硅尺寸200nm左右,其表面的羟基量对于本实验是否有点少?是否采用全氟硅烷会更好一点?
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499653141

新虫 (小有名气)

引用回帖:
28楼: Originally posted by 梦心伤 at 2014-09-20 19:26:31
想问下silica 200nm的合成出来形貌好不好  我合成的300多的 超难修饰,不知道是不是合成的时候水多了 试了KH570  550  表示都不怎么好修饰 合成出来的硅球很好  均一分散 但是修饰不了 哎 没用啊 想问问你合成的怎么 ...

我也在用KH570修饰,你做得怎么样了
52楼2015-07-03 14:41:50
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yeyu4417

至尊木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
junshane: 金币+5 2014-09-11 09:45:21
硅烷要水解,才能对粉体表面进行处理,建议,稍微来点水。
2楼2014-09-11 06:58:29
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junshane

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yeyu4417 at 2014-09-11 06:58:29
硅烷要水解,才能对粉体表面进行处理,建议,稍微来点水。

我加1ml 28%的氨水进去,是否可行?
3楼2014-09-11 09:45:11
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junshane

木虫 (正式写手)

没人来解我的困惑吗?
4楼2014-09-11 10:24:22
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