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yswyx
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专业: 半导体微纳机电器件与系统
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微米和纳米
引用回帖:
8楼
:
Originally posted by
jeremyfrc
at 2014-09-08 12:35:25
这种微米级的工艺用双层胶是不是太浪费了,我做1um的都不需要用双层。我觉得这个就是两次光刻的事情,上下都不需要太对准,对歪一点也没有影响,就是左右,你做第二层的时候多往另外一边靠一靠就好了,真的非常简单 ...
那要看金属有多厚,像楼主开始的思路是lift off,那就lift off好了。如果不用双层胶,金属又厚的话,很难剥掉。
如果不用双层胶,就需要多几片金属片,保证在溅射金属的过程中,始终有胶被金属片保护。这样剥离的时候就保证了又窗口存在。
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11楼
2014-09-12 11:51:25
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jeremyfrc
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专业: 半导体科学与信息器件
引用回帖:
11楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2014-09-11 20:51:25
那要看金属有多厚,像楼主开始的思路是lift off,那就lift off好了。如果不用双层胶,金属又厚的话,很难剥掉。
如果不用双层胶,就需要多几片金属片,保证在溅射金属的过程中,始终有胶被金属片保护。这样剥离的 ...
可以用厚胶,这样问题不大,实在不行就超声。我觉得liftoff金属还是很容易的。
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哈哈哈哈,来吧
12楼
2014-09-13 01:22:50
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