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craig123

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索益半导体

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【答案】应助回帖

匀胶时候的厚度是不是不单跟粘度相关,附件是我们测试的一种光刻胶的不同粘度产品旋涂速度与厚度的关系,可以供参考。
我们有使用过多个不同厂家的光刻胶,印象中有标注粘度的最高数值也就是50CP,成膜厚度曲线跟附件的25CP曲线差不多,大概都是1krpm时候4micro,2krpm时候2.5micro的样子。
旋涂法制备薄膜
匀胶曲线.jpg

3楼2014-09-07 22:34:18
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索益半导体

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【答案】应助回帖

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craig123: 金币+5, ★★★很有帮助, 恩恩 我的是荧光粉 不是半导体 但是5-10CP 真的可以了么?水在20度就是10Cp左右 完全不粘啊 我看了你们公司的网页时做蒸镀和光刻的,对于旋涂来说13是不是会不够 因为现在控制在转速1K感觉大部分都被甩出去了还是配成的悬浊液 2014-09-04 21:09:59
一般黏度在5-10CP左右吧,多层薄膜或多或少都会有互溶的问题,除非下一层的溶剂完全不溶解上一层薄膜,一般无机物可以烧结,有机物可以交联。
纳米颗粒还有一种方法是分散到光刻胶里去,旋涂一层之后交联一层再涂下一层。
如果告知实验条件,我司可帮助推荐合适的光刻胶,网址http://www.se-semi.com
2楼2014-09-02 21:47:48
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zhenwuhuang

至尊木虫 (文学泰斗)

【答案】应助回帖

LDHs薄膜的旋涂法制备及其防腐蚀性能研究
http://www.docin.com/p-821562956.html
4楼2014-09-07 23:11:40
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sspp19911202

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

多层膜在每旋涂完一层后热处理退火到有机物能分解的温度,拿出来冷却到室温,再旋一层,依次下去,最后一层的时候再退火到成膜温度。PS:50层基本做不到。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
5楼2014-10-14 23:12:50
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