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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 如何提高多孔二氧化硅表面的羟基密度
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heteropoly

金虫 (小有名气)

[求助] 如何提高多孔二氧化硅表面的羟基密度 已有1人参与

如题，目前看到有人用硝酸处理的，但文献中没有提到详细的操作参数，比如硝酸浓度，处理温度是时间等。
有经验的虫虫不吝赐教，先谢过了。
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兼容并蓄，乃成大家！
1楼 2014-08-11 15:13:20
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
heteropoly: 金币+3, ★★★很有帮助, 多谢！ 2014-08-12 00:39:09
主要是氧化表面 使得出现氧空位 继而吸收空气水分 从而出现表面羟基 使得表面羟基增多
具体定量的测量表面羟基  还真没研究过 但是表面氧化是非常关键的
赞一下 回复此楼
2楼2014-08-11 15:34:03
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