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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » [求助] Al2O3薄膜沉积
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sumholiday

金虫 (小有名气)

[交流] [求助] Al2O3薄膜沉积

谁知道直流反应溅射沉积Al2O3，其沉积速度与功率和氧分压的关系，给个参考文献也行呀 谢谢
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反应磁控溅射

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1楼 2008-04-09 13:09:02
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cjw796

金虫 (小有名气)
★ ★
wuli8(金币+1,VIP+0):感谢您的帮助^_^
沉积速度和功率基本上成正比，和氧分压关系不大，不过氧分压可是直接决定了薄膜的性能阿，所以这只能根据实验结果了，理论计算没有多大意义
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6楼2008-10-28 02:00:44
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查看全部 6 个回答

元小雪

木虫 (职业作家)
★
zt970831(金币+1,VIP+0):谢谢您的热心答复：）
我没有沉积过Al2O3,只做了些硅和金属的.应该是正相关的
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无聊的博士
2楼2008-04-09 14:02:19
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jamie82

木虫 (著名写手)

一三三
★
zt970831(金币+1,VIP+0):谢谢您的热心答复：）
不同的厂家、不同设备的功率等都是不能一概而论的，尤其是沉积速率更是没有可比性。
我也没做过，自己摸索看看，摸索个几炉心里也就有底了。
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心怀感恩，凡人与事都值得我感恩一番。
3楼2008-04-09 14:22:54
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wql110

铁杆木虫 (著名写手)
我做的是磁控溅射,功率90W,氧气2.4,Ar30,镀4个小时大约有3um...不知道对你是不是有用...
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4楼2008-04-28 14:00:11
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