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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 介孔硅去除模板剂之后呈絮状，粒径增大
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jiayoulaoren

新虫 (小有名气)

[交流] 介孔硅去除模板剂之后呈絮状，粒径增大

最近合成介孔硅，以CTAB为模板，马尔文激光粒度仪测得去模板之前粒径是140nm，但是模板去除之后就絮了，测得粒径特别大（600多nm！），分布不均匀，我用的是两种方法去除模板的：（1）硝酸铵的乙醇溶液  （2）乙醇/盐酸溶液；都是在60℃下回流两次，每次1h， 两种方法去除模板之后结果是一样的，不知道怎么回事，哪位高手给指点指点，谢谢！
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1楼 2014-07-17 17:11:54
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时间不多了

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
CTAB 除了之后肯定会分布性差一点 CTAB带正电 可漆稳定效果啊
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2楼2015-06-08 14:18:58
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黑色幽默88

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
楼主的硝酸铵在哪买的呀，还是自己合成的呢
赞一下 回复此楼
3楼2017-11-03 14:02:57
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