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电子书蒸发镀膜时铜靶材有气泡冒出是怎么回事？ 已有3人参与
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铜靶材图方便直接用的粗的铜导线截成小段放石墨坩埚里面，束流从10mA慢慢加到40mA的时候铜基本都熔融了，但是表面漂浮着有杂质，而且里面看着貌似不断有小气泡冒出，偶尔还会有大的，还爆过两次。而且真空度从最开始的9*10-4变成1*10-2。 网上查了氧化铜高于1000℃的时候会有分解放出氧气，气泡会不会是铜不纯分解造成的呢？ |
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 蒸发镀膜 磁控溅射 |
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peterflyer 
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3楼2014-07-05 09:04:09