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立诛杀曹无伤

银虫 (著名写手)

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专业: 力学中的基本问题和方法

[求助] 利用蛋白石结构SiO2为模板制备多孔碳，浸渍碳源前是否要将opal structure研磨成粉？已有2人参与

参考别人的文献，我想先用Stober法制备300nm左右SiO2球,再就是将SiO2球分散在水/乙醇里缓慢蒸发溶剂，形成opal structure。我刚刚做到合成SiO2球那一步，我想知道：
1. SiO2球一定是要缓慢蒸发才能形成opal structure吗？蒸发温度高点行不行？主要是担心耗时太久。
2. opal structure做好以后是个啥样子？成硬块了吗？还是很松散的团聚体？
3. opal structure做好以后，需要浸渍碳源，我想知道是否需要先研磨它？研磨的话我怕破坏了结构，把它弄散架了；如果不研磨我又担心与碳源接触不完全，浸渍不进去。

请教做过的人。

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1楼 2014-06-28 16:54:16

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立诛杀曹无伤

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引用回帖:

7楼: Originally posted by halloysite at 2014-06-30 15:27:47
研磨成粉然后浸渍也可以的，碳源和模板可以充分接触。模板结构都一样，研磨导致的结构破坏只是一部分，看电镜时整体形貌还是和模板结构相似的。

好的，谢谢，太有用了。我又产生了一个疑问，单分散性的球（PS 微球或者SiO2球）是怎么变成3D模板的呢？我查了好几篇文献，都没谈这个问题，他们只是说把单分散性的球分散在乙醇水溶液里，再缓慢挥发溶剂干燥就得到3D模板了。是不是意味着单分散的球只要干燥就会团聚成块？因为我们这儿实验条件有限，材料没做出性能以前老板都不让我们拍电镜，所以我也没见过单分散球和3D模板在电镜下有什么不同，麻烦您为我解惑一下。