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利用蛋白石结构SiO2为模板制备多孔碳，浸渍碳源前是否要将opal structure研磨成粉？已有2人参与
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参考别人的文献，我想先用Stober法制备300nm左右SiO2球,再就是将SiO2球分散在水/乙醇里缓慢蒸发溶剂，形成opal structure。我刚刚做到合成SiO2球那一步，我想知道： 1. SiO2球一定是要缓慢蒸发才能形成opal structure吗？蒸发温度高点行不行？主要是担心耗时太久。 2. opal structure做好以后是个啥样子？成硬块了吗？还是很松散的团聚体？ 3. opal structure做好以后，需要浸渍碳源，我想知道是否需要先研磨它？研磨的话我怕破坏了结构，把它弄散架了；如果不研磨我又担心与碳源接触不完全，浸渍不进去。 请教做过的人。 |
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