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求教磁控溅射镀铝膜发黑的问题 已有4人参与
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在双面氧化长有1.4um的二氧化硅的p100硅片上面用磁控溅射镀上1.2um的铝，镀完后发现有很大部分区域颜色发黑，没有铝金属光泽。用万用表测试是否短路发现颜色较浅的区域能导通，颜色最暗的小部分区域无法导通，显示有很小的电阻。然后按照相同的参数，又镀了一片，发现依然有区域颜色稍微暗，但是全部能短路导通。下图一是先后镀的两个片子，下图二是直接在没有二氧化硅的硅片上镀铝后的图。（镀铝是为了做离子刻蚀的抗刻蚀层） 现在就是不清楚这些发暗的区域到底是怎么回事，难道是没有镀上铝或者镀的很少吗？或者是铝和二氧化硅反应生成了硅和氧化铝，从而失去了金属光泽？ 然后呢，这些硅片全部都是用高温胶带粘住三个角给粘在腔室里的，所以我们能看到三个角上是没有铝的，然后开腔取片子时，我还特意测了一下高温胶带表面是否镀上铝了，发现高温胶带表面是短路导通的。这就说明高温胶带上面也镀上铝了啊。但是我们老板怀疑是镀的铝比较少，因为第一片背面做的是有结构的，很重要，所以现在实验就没法做了，很着急发暗的区域到底是怎么了，请前辈赐教啊，感激不尽！  IMG_20140626_215404.jpg  IMG_20140626_215501.jpg |
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