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zhiwan

木虫 (正式写手)

[交流] KH560的使用

准备用KH560对氧化物表面进行改性,请问各位高人,KH560在使用前需要处理吗?怎样处理呢?KH560使用对溶剂有限制吗?比如必须是无水等,急等
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zhiwan

木虫 (正式写手)

非常感谢!

茅塞顿开,真的对我帮助很大,太谢谢了!
6楼2008-03-27 19:18:35
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604gq

木虫 (职业作家)

学历太低不辨东西南北

★ ★
jackchen145(金币+2,VIP+0):好人qq,呵呵!
KH560中文名称是g-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷,易水解,缩合形成聚硅氧烷,过热,光照、过氧化物存在下易聚合。
适用前不需要处理,直接在甲苯里加热回流,就可以完成你需要的表面改性。但是要保证体系无水。所以你所用到的氧化物最后预先真空干燥。而甲苯也需要干燥(比如加入分子筛)。
坚决贯彻“灌水有理,一灌到底,乱灌不上税,灌死不负责”的大无畏精神。
2楼2008-03-27 08:25:15
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weilmeng

木虫 (正式写手)

请教楼上的,为什么要保证体系无水,这样KH560如何水解?我看到文献上写的水解体系是:(水+甲醇)浓度10%左右。
3楼2008-03-27 08:59:00
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604gq

木虫 (职业作家)

学历太低不辨东西南北

引用回帖:
Originally posted by weilmeng at 2008-3-27 08:59:
请教楼上的,为什么要保证体系无水,这样KH560如何水解?我看到文献上写的水解体系是:(水+甲醇)浓度10%左右。

呵呵,有机硅氧烷(比如这里的KH560)对氧化物(如二氧化硅)表面改性,如果采取我所建议的无水环境,则用到的是KH560和表面羟基的脱醇缩聚。而如果是你所说的有水情形,则KH560经过先水解,再和表面羟基脱水缩聚。但是,后种情形最容易出现一个糟糕的局面:KH560水解后,发生自聚,而不是和氧化物表面羟基脱水缩聚。当然,这个不利局面也是可以尽可能克服的,比如采取stober体系,而你说的正是stober配比。不过,这也只是尽可能的减少了KH560自聚。所以建议用前者,即众所周知的graft method
坚决贯彻“灌水有理,一灌到底,乱灌不上税,灌死不负责”的大无畏精神。
4楼2008-03-27 09:49:22
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