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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » GaAs片上光刻失败后，衬底二次利用，但是出现了漂胶！怎么办？
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付付得真

金虫 (正式写手)

[求助] GaAs片上光刻失败后，衬底二次利用，但是出现了漂胶！怎么办？ 已有2人参与

如题所述，光刻胶用的是shipley -9912正性光刻胶。
光刻失败的GaAs片的处理方式是：
1、丙酮 超声15min ；异丙醇 超声15敏；去离子水清洗40遍
我用光学显微镜在100X下观察，还是有残胶，于是用棉签沾着丙酮又擦了擦片子，而后重复1的步骤。
2、热板120℃，30min加热。
3、匀胶1300rpm/10s, 甩胶4500rpm/40s
结果居然漂胶了！！！

另外，我之前刚刚拿到新的衬底片时，显影大概在10s就会出图案，而且比较均匀；但是将曝光过的GaAs片
二次利用是就出现了上面的问题。

PS：在用新的GaAs衬底片实验时，湿度大概在50~60；
        使用二次利用的GaAs衬底片时，湿度会大一些，（最近老下雨）。
        湿度的影响会这么大吗？
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1楼 2014-06-18 22:14:28
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付付得真

金虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yuanxin5254 at 2014-06-19 16:45:09
那你后烘的温度大一点，时间长一点看看...

不是显影完成了在后烘吗？
你指的应该是涂胶之前的烘烤吧？
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6楼2014-06-19 17:00:00
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你说的飘胶是光刻前还是光刻后
赞一下 回复此楼
我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
2楼2014-06-18 23:18:10
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付付得真

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yuanxin5254 at 2014-06-18 23:18:10
你说的飘胶是光刻前还是光刻后

光刻完显影的时候
赞一下 回复此楼
3楼2014-06-19 11:12:09
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 付付得真 at 2014-06-19 11:12:09
光刻完显影的时候...

那你后烘的温度大一点，时间长一点看看
赞一下 回复此楼
我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
4楼2014-06-19 16:45:09
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