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GaAs片上光刻失败后，衬底二次利用，但是出现了漂胶！怎么办？ 已有2人参与
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如题所述，光刻胶用的是shipley -9912正性光刻胶。 光刻失败的GaAs片的处理方式是： 1、丙酮 超声15min ；异丙醇 超声15敏；去离子水清洗40遍 我用光学显微镜在100X下观察，还是有残胶，于是用棉签沾着丙酮又擦了擦片子，而后重复1的步骤。 2、热板120℃，30min加热。 3、匀胶1300rpm/10s, 甩胶4500rpm/40s 结果居然漂胶了！！！ 另外，我之前刚刚拿到新的衬底片时，显影大概在10s就会出图案，而且比较均匀；但是将曝光过的GaAs片 二次利用是就出现了上面的问题。 PS：在用新的GaAs衬底片实验时，湿度大概在50~60； 使用二次利用的GaAs衬底片时，湿度会大一些，（最近老下雨）。 湿度的影响会这么大吗？ |
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3楼2014-06-19 11:12:09
yuanxin5254
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2楼2014-06-18 23:18:10
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4楼2014-06-19 16:45:09
yuanxin5254
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5楼2014-06-19 16:47:29
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