| 查看: 2689 | 回复: 10 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
GaAs片上光刻失败后，衬底二次利用，但是出现了漂胶！怎么办？ 已有2人参与
|
||
|
如题所述，光刻胶用的是shipley -9912正性光刻胶。 光刻失败的GaAs片的处理方式是： 1、丙酮 超声15min ；异丙醇 超声15敏；去离子水清洗40遍 我用光学显微镜在100X下观察，还是有残胶，于是用棉签沾着丙酮又擦了擦片子，而后重复1的步骤。 2、热板120℃，30min加热。 3、匀胶1300rpm/10s, 甩胶4500rpm/40s 结果居然漂胶了！！！ 另外，我之前刚刚拿到新的衬底片时，显影大概在10s就会出图案，而且比较均匀；但是将曝光过的GaAs片 二次利用是就出现了上面的问题。 PS：在用新的GaAs衬底片实验时，湿度大概在50~60； 使用二次利用的GaAs衬底片时，湿度会大一些，（最近老下雨）。 湿度的影响会这么大吗？ |
回复此楼» 猜你喜欢
求助一篇MEMS散热器件文献
已经有0人回复
-
材化专业SCI论文（职称评定）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有109人回复
-
材料化学专业SCI论文（职称评定）
已经有0人回复
yuanxin5254
金虫 (正式写手)
- 应助: 26 (小学生)
- 金币: 1035.4
- 散金: 165
- 红花: 2
- 帖子: 302
- 在线: 105.3小时
- 虫号: 3010956
- 注册: 2014-03-02
- 性别: GG
- 专业: 半导体光电子器件
5楼2014-06-19 16:47:29
yuanxin5254
金虫 (正式写手)
- 应助: 26 (小学生)
- 金币: 1035.4
- 散金: 165
- 红花: 2
- 帖子: 302
- 在线: 105.3小时
- 虫号: 3010956
- 注册: 2014-03-02
- 性别: GG
- 专业: 半导体光电子器件
2楼2014-06-18 23:18:10
3楼2014-06-19 11:12:09
yuanxin5254
金虫 (正式写手)
- 应助: 26 (小学生)
- 金币: 1035.4
- 散金: 165
- 红花: 2
- 帖子: 302
- 在线: 105.3小时
- 虫号: 3010956
- 注册: 2014-03-02
- 性别: GG
- 专业: 半导体光电子器件
4楼2014-06-19 16:45:09
