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fyqman2006

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[资源] 离子束沉积薄膜技术及应用-刘金声著

内容推荐
   本书系统地介绍先进离子束沉积（IBD）薄膜技术及应用。包括IBD薄膜技术基础、离子束溅射沉积（IBSD）薄膜技术研究及应用、双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜和薄膜改性方法、离子束反应溅射沉积（IBRSD）薄膜方法、离子束轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积（IBAD）薄膜方法等内容。
   本书总结了作者多年来在该技术领域的研究成果，取材新颖，理论联系实际。书中提供了丰富的研究方法及范例，对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要知道意义。
   该书可供从事近代薄膜科学技术与材料研究人员和工艺师等阅读，也可供理工科大专院校有关专业师生参考。

目录
第1章离子束沉积（IBD）薄膜原理.
1.1离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程
1.1.1运行离子的碰撞现象
1.1.2非热平衡条件下的IBSD薄膜原理
1.2离子束溅射粒子的基本性质
1.2.1溅射原子通量的构成
1.2.2溅射原子通量的分布
1.2.3溅射合金成分原子通量的分布
1.2.4溅射原子能量的分布
1.2.5合金的溅射特性
1.2.6超薄薄膜的生长
1.2.7氧化物的溅射特点
1.3惰性气体离子的气种效应
1.3.1薄膜质量厚度分析及晶格膨胀现象
1.3.2薄膜中掺气的气种效应
1.3.3气种效应改变薄膜性抽的典型实例
1.4离子束轰击固体表面引起的重要效应
1.4.1离子束清洗和增强薄膜附着力的作用
1.4.2离子束轰击引起材料表面损伤及缺陷增强扩散现象
.1.4.3离子束轰击引起的表面结构再造现象..
1.4.4离子束轰表面结构再造技术的应用
第2章IBSD薄膜技术
2.1控制生长薄膜结构及性质的方法
2.2薄膜晶体结构的形成及演变
2.3薄膜结构与薄膜内应力
2.4IBSD薄膜技术的典型应用
第3章双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜技术
3.1双Ar+离子束溅射沉积薄膜改性方法
3.2双离子束技术的近期进展
第4章IBRSD薄膜方法及应用
4.1IBRSD过程的基本方式
4.2IBRSD及反应合成化合物薄膜
4.3IBRSDIVA和IVB族过渡金属氮化物薄膜
4.4IBRSD氧化物薄膜
第5章IBAD薄膜方法及应用
5.1离子轰击对生长薄膜的基本作用
5.2IBAD薄膜方法概述
5.3IBAD薄膜方法的基础
5.4IBAD光学薄膜的应用
参考文献...

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