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liqing9842

铜虫 (小有名气)

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[交流] 怎样回复审稿人的提问？

审稿人回复如下：This is interesting work. Substitution has provided valuable clues for understanding the essential of substitution in battery cathode materials. What only worries me is the use of classic Randles-Sevcik equation for calculation of diffusion coefficients. The equation is only suitable when ideally diffusion-controlled systems are applicable. This is not a case here. The error could be very large here. Even no attempt to support the use with data of diagnostic experiments is attempted here.

审稿人的意思是说我用CV计算Li+扩散系数有问题，Randles-Sevcik equation只适用于理想的扩散控制体系，但实际上现在文献上所引用的Li+扩散系数计算方法算出的都是表观扩散系数，实际扩散系数是基本不可能求出的。

所以，本人打算这样回复：首先肯定reviewer的看法。然后说锂离子迁移率的测算有很多方法，常用的有CV（Cyclic Voltammetry），EIS(Electrochemical Impedance Spectroscopy)，GITT(Galvanostatic Intermittent Titration Technique)恒电流间歇滴定法 ,PITT(Potentiostatic Intermittent Titration Technique)恒电位间歇滴定法,PRT(Potential Relax Technique)电位弛豫法。这些方法实际上测出来的都是表观扩散系数，要测出固相的实际扩散系数是很难的。我们只能制作比较薄的电极，使测量值接近D值。尽管这种方法与实际值会有一点偏差，但是可以利用得到的表观扩散系数说明问题并指导实验。现在很多研究者也在沿用这个方法来分析问题（引文献）。

这是小女子的第一篇SCI，请各位有经验的大牛们给小女子提点意见，看看这样回复妥不妥？如果可能，请给出中肯的意见，小女子感激不尽

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1楼 2014-05-21 11:08:26

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丰田

金虫 (正式写手)

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★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

Hi 大家好；
对于阻抗计算锂离子扩散系数，有一个比较简略的方法，
用公式D = R2T2/2A2n4F4C2σ2. 所有的数字都是上标。小木虫界面上打不出上标，所以把幂指数写在对应符号后边。
在此公式中，D 是所要计算的锂离子扩散系数，
R 气体常数， 8.314 JK-1mol-1
T 开尔文温度，如果是室温测试， T = 298K
A 电极面积
n 反应过程中转移的电子数
F 法拉第常数 96500C/mol
σ 是直线拟合 Z’~ω-1/2的斜率
C 锂离子体相浓度可以通过材料密度推导得出
C = n/V =m/M/V = ρV/M/V = ρ/M
公式中用到的M 的材料的摩尔质量

对应两篇文献中文版英文版
1 WANG X Y, CHENG Q, HUANG T, et al. Effect of Calcination Atmosphere on Li/Ni Disorder and Electrochemical Performance of Layered LiNi0. 5Mn0. 5O2[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2011, 27(2): 437-442.
link:
http://www.sciencedirect.com/sci ... i/S0013468611001952
2 Wang X, Hao H, Liu J, et al. A novel method for preparation of macroposous lithium nickel manganese oxygen as cathode material for lithium ion batteries[J]. Electrochimica Acta, 2011, 56(11): 4065-4069.
link:
http://www.sciencedirect.com/sci ... i/S0013468611001952
祝paper 多多，一切顺利