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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 关于光刻曝光能量和焦面的问题
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

[交流] 关于光刻曝光能量和焦面的问题 已有1人参与

大家在做光刻之间是不是要找好曝光能量和焦深呢，大家都是用什么方法找出这两个参数的，一起交流一下哈。
  对了，不知大家都用的什么厂家的光刻机呢，有资料一起共享哈。
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我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
1楼 2014-04-19 22:43:44
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你用的是stepper？
曝光能量的抓取一般都采用在标准值周围做一堆实验数据点，也就是同一片wafer用不同曝光剂量在不同位置曝光，其他工艺条件比如前烘/显影之类的都是完全一致的，然后再通过显微镜观察抓出最佳的曝光剂量。不同光刻机的实现方法不同。
不是简单的曝光能量的问题，实际上牵扯的是工艺窗口，越复杂的工艺，工艺窗口的维数越多，不仅仅是曝光能量的问题。
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2楼2014-04-22 14:27:03
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-04-22 14:27:03
你用的是stepper？
曝光能量的抓取一般都采用在标准值周围做一堆实验数据点，也就是同一片wafer用不同曝光剂量在不同位置曝光，其他工艺条件比如前烘/显影之类的都是完全一致的，然后再通过显微镜观察抓出最佳的曝 ...

我们一直是用这个方法做的啊，在显微镜下看的好好的，但是在扫描电镜下看到的就是不行啊，显微镜是垂直市场只能看到上表面啊。侧壁根本看不到啊
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我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
3楼2014-04-22 15:50:33
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by yuanxin5254 at 2014-04-22 15:50:33
我们一直是用这个方法做的啊，在显微镜下看的好好的，但是在扫描电镜下看到的就是不行啊，显微镜是垂直市场只能看到上表面啊。侧壁根本看不到啊...

如果不垂直，线条边沿是有黑边的，因为那里没有光返回镜头。
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4楼2014-04-28 16:23:26
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