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硅片自组装镀膜前的亲水处理
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各位大侠，请教一下，我把硅片用碱法刻蚀工艺腐蚀成了具有一定高度的图形，然后氢氟酸清洗一分钟，接下来用双氧水/氨水做亲水处理，以便后续自组装镀膜，可是在做亲水处理时，硅片表面一直冒气泡，疑似硅与溶液发生了反应，请问这个亲水反应过程会不会把我刻蚀成的图形给毁掉啊，图形高度大概有几百nm？ |
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