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硅片自组装镀膜前的亲水处理
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各位大侠,请教一下,我把硅片用碱法刻蚀工艺腐蚀成了具有一定高度的图形,然后氢氟酸清洗一分钟,接下来用双氧水/氨水做亲水处理,以便后续自组装镀膜,可是在做亲水处理时,硅片表面一直冒气泡,疑似硅与溶液发生了反应,请问这个亲水反应过程会不会把我刻蚀成的图形给毁掉啊,图形高度大概有几百nm? |
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