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2008034071金虫 (小有名气)
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[求助]
nife XRD测试中没有111峰 已有2人参与
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在硅片上，用磁控溅射的沉积的NiFe膜 厚度20nm左右吧 为什么测不出（111）峰？ 本来是实验Ta缓冲层厚度对镍铁(111)影响的，用来比较对111晶向的诱导作用。 20nm可能有点薄。但是如果做厚了会不会影响nife111峰的比较。 顺便求一下，AMR测试方法啊 [ Last edited by 2008034071 on 2014-3-13 at 15:46 ] |
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