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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 磁性材料 » nife XRD测试中没有111峰
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2008034071

金虫 (小有名气)

[求助] nife XRD测试中没有111峰 已有2人参与

在硅片上，用磁控溅射的沉积的NiFe膜  厚度20nm左右吧 为什么测不出（111）峰？
本来是实验Ta缓冲层厚度对镍铁(111)影响的，用来比较对111晶向的诱导作用。
20nm可能有点薄。但是如果做厚了会不会影响nife111峰的比较。
顺便求一下，AMR测试方法啊

[ Last edited by 2008034071 on 2014-3-13 at 15:46 ]
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辛勤的付出总会有回报
1楼 2014-03-13 15:44:12
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zj12

金虫 (初入文坛)
感谢参与，应助指数 +1
mjx150: 本版严禁留下QQ等联系方式 2014-03-13 21:38:53
chemlh: 应助指数-1 2014-03-14 08:44:07
您好，可否告诉我您的腾讯号或电子邮箱，交流交流
赞一下 回复此楼
2楼2014-03-13 19:58:18
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

flielie

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

请问你找到解决办法了吗？另外在Ta上沉积镍铁的工艺怎么完成？请求帮助

发自小木虫IOS客户端
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3楼2017-05-22 22:10:45
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