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Ni/SiO2 H2-TPD峰类型
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| 做了一个Ni/SiO2的H2-TPD，低温区除了三个峰，分别在 97 ℃，147 ℃，307 ℃，峰很明显并且峰面积依次增大。请问这三个峰该如何归属？并求文献佐证。好像低于120℃的是物理吸附的H2吧。 |
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