| 查看: 272 | 回复: 0 | ||
[求助]
Ni/SiO2 H2-TPD峰类型
|
| 做了一个Ni/SiO2的H2-TPD，低温区除了三个峰，分别在 97 ℃，147 ℃，307 ℃，峰很明显并且峰面积依次增大。请问这三个峰该如何归属？并求文献佐证。好像低于120℃的是物理吸附的H2吧。 |
回复此楼» 猜你喜欢
如何掌握一门外语？
已经有25人回复
-
国家级人才团体课题组招收2026届博士
已经有1人回复
-
专业论文润色/翻译怎么收费?
已经有87人回复
-
气相色谱点不着火
已经有4人回复
-
化工安全有关的复习提纲
已经有0人回复
-
国家级人才课题组招收2026年入学博士
已经有2人回复
-
散金
已经有86人回复
-
浙江师范大学国家杰青杨启华教授团队招收2026年博士研究生
已经有34人回复
-
南通大学电气与自动化学院2026年优秀博士招聘公告
已经有0人回复
点击这里搜索更多相关资源