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xz275149045铁虫 (正式写手)
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[求助]
关于光电化学实验中电极与硅片形成欧姆接触的问题
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给位大牛,我想请教一下,我在做电化学测试我的样品的光电流的过程中,看到很多文献中 说使用Ga-In合金在Si片背面粘接然后可以形成欧姆接触。但是我们呢实验室没有Ga,想问下只用 In行不行? 如果从功函数角度出发,我使用的是p-Si,虽然掺杂浓度我不知道,但其功函数在4.87~4.99eV, 而In的功函数为4.12eV,Ga的为4.2eV,其合金的功函数我不知道,但估计是比p-Si低,这样的话 应该是形成整流接触才对,而不是欧姆接触。这一点弄不明白。 希望各位大牛能够答疑解惑,不甚感激! |
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