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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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teedy520

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xp2567342

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
据我所知ALD氧化铝只要有10几纳米绝缘性就很好了,水的wait时间是不是太长了?
2楼2014-02-27 21:50:28
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teedy520

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3楼2014-02-28 09:54:50
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xp2567342

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by teedy520 at 2014-02-28 09:54:50
水的wait时间太长了会对氧化铝的生长造成影响吗?这个我也不是很清楚的,哦,对了,那个是清洗的时间的,我弄错了的,不是wait的时间...

wait时间就是清洗时间,我一般都是调跟三甲基铝一样的

[ 发自小木虫客户端 ]
4楼2014-03-04 12:53:57
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teedy520

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5楼2014-03-10 20:18:35
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ms_hit_yzy

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

用的是硅片还是氧化硅片?硅片的话,它表面有羟基跟三甲基铝反应把Al留在其表面吗?
6楼2014-05-19 23:16:02
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zhilantian

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

你的脉冲时间真不短,前驱体应该是足量了;
可以考虑提高一下沉积温度,绝缘性不好,怀疑氧化铝层中还有-OH基的存在
你用哪家的设备?
7楼2014-10-09 09:38:09
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