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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 请问一下制备50nm*50nm微通道可以有哪些方法？
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xuanlv315

禁虫 (初入文坛)
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1楼 2014-01-07 16:20:52
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lihao1223

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xuanlv315: 金币+5, ★★★★★最佳答案 2014-01-07 16:26:26
1．反应离子刻蚀技术：这一方法并不改变材料的折射率，而是利用传统的半
导体工艺中的等离子体刻蚀技术直接在聚合物薄膜上刻蚀出所需的光波导。
2．平板影印技术：首先是在基板上用旋转涂布的方法涂上一低折射率的下包
层，再在其上涂布作为芯层聚合物材料的高折射率层，并将其用曝光显影的方式
设计出符合需要的波导芯层的尺寸大小，最后再在其上涂布与下包层相同材料的
上包层，这样就完成了整个平版影印光波导制程。
3．激光烧蚀技术：这一方法是直接利用紫外激光束在聚合物薄膜上刻蚀出所
需的波导。
4．模压复制成型技术：针对所需光波导芯层的图案进行压模的制作，在温度
和压力的作用下，将模板上的图形转印在光聚合物材料上，去模后，就可获得所
需要的光波导凹槽，然后，在凹槽中填充光波导芯层聚合物材料，最后，再在顶
端覆盖一层上包层聚合物材料，即完成了聚合物光波导的制作，该方法适合大批
量光波导器件的制作。
5．激光直写技术：利用高能量激光束，在聚合物薄膜上直接刻蚀出所需要的
光波导通道。波导成型和极化可以同时进行，但要求聚合物材料必须对激光具有
光敏性，因此对材料有所限制。
6．电子束写入技术：利用高能量的电子束直接射入低折射率的覆盖层中，因
为有机光波导材料的分子结构会受到高能量电子束的照射而产生结构变化，使得
其折射率增加而形成高折射率的芯层部分。
7．光漂白技术：利用某些聚合物材料所具有的光敏成分在光照的情况下发生
光化学反应，最终在曝光部分和未曝光部分形成折射率差，从而获得所需的光波
导。
8．微细笔直写技术：微细笔写入工艺是一种新型的厚膜直接描绘制备技术，
它无需图样拷贝、光绘胶片、掩模制版等成膜工艺准备过程，只要利用CAD/CAM
设计生成的数控加工数据就可以在各种基板上直写光波导。
上述聚合物光波导的制作方法根据聚合物材料的不同，
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宠辱不惊，看庭前花开花落；去留无意，望碧空云卷云舒。
2楼2014-01-07 16:22:58
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lihao1223

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
xuanlv315: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-01-07 16:26:35
苏州汶灏芯片科技有限公司
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宠辱不惊，看庭前花开花落；去留无意，望碧空云卷云舒。
3楼2014-01-07 16:24:32
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
除了电子束光刻，没有一项他列的技术能搞定50nmx50nm的通道。即使是有电子束光刻，也不是那么容易就完成的。
而且他介绍的那个公司，也根本不具备电子束光刻的能力，普通的微细加工能力都很差。

如果想完成你想要的微通道，最好详细介绍你需要的结构，比如对材料的要求，对通道封闭的要求，通道长度，形状的要求，等等。否则没办法给你推荐合适的加工渠道。
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4楼2014-01-07 17:57:02
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by lihao1223 at 2014-01-07 16:22:58
1．反应离子刻蚀技术：这一方法并不改变材料的折射率，而是利用传统的半
导体工艺中的等离子体刻蚀技术直接在聚合物薄膜上刻蚀出所需的光波导。
2．平板影印技术：首先是在基板上用旋转涂布的方法涂上一低折射率的 ...

文不对题啊，你这是要害死楼主的节奏吗？
专业术语不对就不说了，更差劲的是没一个能解决楼主问题的……
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5楼2014-01-07 18:02:01
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ping10nkc

银虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2014-01-07 17:57:02
除了电子束光刻，没有一项他列的技术能搞定50nmx50nm的通道。即使是有电子束光刻，也不是那么容易就完成的。
而且他介绍的那个公司，也根本不具备电子束光刻的能力，普通的微细加工能力都很差。

如果想完成你想 ...

您好，有模具的话，我想纳米压印是可以实现的。
开模具的话，硅刻蚀也是一条路。
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6楼2014-01-26 13:56:14
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