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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 旋涂膜
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chaiping

金虫 (小有名气)

[交流] 旋涂膜

请问大家，我用硅片做基底采用旋涂法制膜，测过XRD后却不出峰，是我的样品太少的原因吗，各位碰到过这样的情况吗，还有如果硅片是（100）的，那测出来的XRD应该只显示（100）吗，谢谢！！！
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1楼 2007-12-25 20:04:33
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miloyy

木虫 (正式写手)
XRD 的扫描模式？
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2楼2007-12-25 22:02:26
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congyu_2007

金虫 (著名写手)
★
3040821025(金币+1,VIP+0):谢谢提供
你的样品退火处理了吗？用旋涂法制膜一定要退火，使其成为晶态膜，若是溶胶膜或非晶态，肯定没有衍射峰啊。
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如果能追随理想而生活，本着正直自由的精神，勇于直前的毅力，诚实不自欺的思想而行，则定能臻于至善至美的境地。
3楼2007-12-26 08:58:00
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chaiping

金虫 (小有名气)
多谢楼上两位的回复，XRD就是常规的扫描模式，每分钟扫十度。样品是经过退火处理的，退火四分钟，是不是太短了，或者是不是因为旋涂的样品量太少了，
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4楼2007-12-26 15:03:01
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